IT之家 1 月 5 日音尘,好意思国劳伦斯利弗莫尔国度施行室(LLNL)正在研发一种基于铥元素的拍瓦(petawatt)级激光时刻,该时刻有望取代刻下极紫外光刻(EUV)用具中使用的二氧化碳激光器,并将光源遵循擢升约十倍。这一破损可能为新一代“荒芜 EUV”的光刻系统铺平说念路,从而以更快的速率和更低的能耗制造芯片。 刻下,EUV 光刻系统的能耗问题备受热心。以低数值孔径(Low-NA)和高数值孔径(High-NA)EUV 光刻系统为例,其功耗分辨高达 1,170 千瓦和 1,400 千瓦。...